ASML, el fabricante neerlandés que tiene el monopolio mundial de la litografía ultravioleta extrema (EUV), ha presentado un nuevo récord en su sistema de impresión de chips: ha conseguido crear estructuras de 8 nanómetros de ancho en una oblea de silicio en un solo paso. Son las estructuras más pequeñas jamás creadas en una sola exposición por un sistema comercial de litografía. Según ASML, los chips fabricados con este equipo podrán contener 2,9 veces más transistores que los producidos con la generación anterior de luz EUV. La noticia la cuenta Nature. Continúa leyendo «Una máquina del tamaño de un autobús de dos pisos imprime transistores de 8 nanómetros: el nuevo equipo High-NA EUV de ASML que decidirá si Moore sigue vivo en la era de la IA»
